基片尺寸:φ70mm;抽气50分钟可达5.0X10-4 Pa;基片镀膜均匀性≤±5%;样品台3-30转/分范围连续可调;3支φ3英寸磁控靶
配有多套磁控靶,配有电动挡板,靶角度可沿轴线调节,可实现共溅射。蒸发源多组,电极水冷,蒸发源之间隔断,且均有独立电动挡板,镀膜均匀性良好。
无