仪器列表
截面抛光仪
截面抛光仪
仪器编号
20181534
规格
IB-19510CP
生产厂家
日本电子
型号
IB-19510CP
制造国家
日本
分类号
03061809
放置地点
轧制中心106
出厂日期
2019-08-26
购置日期
2019-08-26
入网日期
2023-12-05

主要规格及技术指标

相机放大倍率50-1000倍;样品台平移距离不小于±3cm,精确至0.1mm;样品台倾转角度不小于±5度,精确至1度;电子枪电压0-8kv,步长0.1kv

主要功能及特色

利用高能离子束轰击样品,逐步减去样品表面或截面的应力层,以制备出表面无应力切光洁平整的样品。用于EBSD,SEM等设备的样品制备。

主要附件及配置

样品台、遮光板

公告名称 公告内容 发布日期