燕山大学大型仪器共享平台

1.真空腔体：预处理室真空腔体尺寸 Φ400×350mm，SUS304 不锈钢材质，多类标准功能接口，内外电化学抛光；设备极限真空可达 5×10⁻⁵Pa，真空测量量程为大气压～10⁻⁵Pa。 2.真空抽气系统：配置 FF160/620 涡轮分子泵（抽速 620L/S）+ 机械泵（抽速 6L/S），搭配复合数字真空计精准监测真空度。 3.控制系统：采用触摸屏 + PLC 集成电控方案，具备缺相、缺水欠压、真空安全保护与安全互锁功能，真空腔体底部带脚轮方便移动。 4.样品承载系统：样品架最大可放置 100×100mm 样品，转速 0~30 转 / 分连续可调，镀膜均匀度优于 ±5%。蒸发镀膜单元：搭载 5 套水冷电极式金属蒸发源（蒸发舟 90mm），配备独立挡板，配置 1 套最大功率 1.6kW 蒸发电源，镀膜速率可调控；配套单通道水冷膜厚仪实时监测薄膜厚度。

主要功能及特色

1.多功能集成真空腔体：预留手套箱、样品磁力传递、多类型外接接口，可实现样品无尘转移、多腔体联用，适配预处理、薄膜沉积等多场景工艺需求。 2.高可靠智能真空控制：全流程安全联锁防护，人机交互触摸屏集中管控抽真空、样品旋转、蒸发镀膜、电源切换、膜厚监测全工序，操作便捷、工艺可追溯。 3.高精度均匀金属薄膜制备：多组独立可控金属蒸发源，可实现多种金属薄膜依次蒸镀，搭配旋转样品台保障膜层均匀性，膜厚实时精准监测，工艺重复性好。 4.高洁净高真空工艺环境：不锈钢腔体抛光处理、高极限真空配置，可规避水汽、杂质污染，适合柔性电子、半导体、传感器等精密器件的金属电极薄膜制备。

主要附件及配置

无

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