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X射线光电子能谱仪
X射线光电子能谱仪
仪器编号
2025007661
规格
PHI GENESIS 500
生产厂家
日本/ULVAC-PHI,Inc
型号
PHI GENESIS 500
制造国家
日本
分类号
放置地点
出厂日期
2023-09-29
购置日期
1970-01-01
入网日期
2025-11-24

主要规格及技术指标

★1.1微区分析(X射线束斑≤5μm)能量分辨率和灵敏度:对Ag3d5/2峰能量分辨≤1.00eV时,计数率强度高于8Kcps; ★1.2 微区分析(X射线束斑≤10μm)能量分辨率和灵敏度:对Ag3d5/2峰能量分辨≤0.60eV时,计数率强度高于50Kcps; 1.3 微区分析(X射线束斑≤10μm)能量分辨率和灵敏度:对Ag3d5/2峰能量分辨≤1.00eV时,计数率强度高于100Kcps; ★1.4 微区分析(X射线束斑≤20μm)能量分辨率和灵敏度:对Ag3d5/2峰能量分辨≤0.60eV时,计数率强度高于200Kcps; 1.5 微区分析(X射线束斑≤20μm)能量分辨率和灵敏度:对Ag3d5/2峰能量分辨≤1.00eV时,计数率强度高于400Kcps; 1.6 大束斑分析(X射线束斑≥100μm)能量分辨率和灵敏度:对Ag3d5/2峰能量分辨≤1.0eV时,光源功率不大于100W条件下,计数率强度高于6Mcps; 1.7 最佳能量分辨率:对Ag3d5/2峰,半峰宽(FWHM)优于0.48eV 1.8 能够执行点分析、线扫描、面分析、化学态成像、深度剖析、角分辨XPS; 1.9 化学态成像模式:快速平行成像或扫描X射线成像,每个像素点都有对应的图谱,可以回溯,实现由谱得图,由图得谱;

主要功能及特色

X射线光电子能谱仪(简称XPS),通过使用X射线入射固体样品表面并采集从样品表面产生的光电子,提供表面的元素成分、元素化学态信息。XPS的分析深度小于10nm,被广泛应用于分析无机化合物、合金、有机高分子化合物、能源电池材料、催化材料等,表征表面成分,表面缺陷(腐蚀,异物,污染,分布不均等),表面多层薄膜等,对于各种材料开发,材料剖析与失效机理的分析和研究具有不可替代的作用。

主要附件及配置

公告名称 公告内容 发布日期