1. 曝光面积:110mm×110mm。
2. 曝光波长:365nm 40mW/cm2。
3. 分辨力:0.8um。
4. 显微镜扫描范围:X:±50mm,Y:±20mm。
5. 对准精度:±0.5um。
6. 掩膜尺寸:3英寸,4英寸,5英寸。
7. 样片尺寸:2英寸、3英寸、4英寸;厚度0.1mm-5mm。
8. 照明不均匀性:2%(直径100mm范围)。
9. 最大胶厚度:350um。
10. 掩膜相对于样片运动行程:X:±5mm,Y:±5mm,θ:±6度。
11. 曝光强度:40mW。
12. 光源平行性:<1.8°。
13. 对准方式:CCD+显示器对准,光学合像,光学+电子放大400倍。
紫外光刻机采用LED光源,紫外波长365nm,纯度高、辐照能量均一可调,采用智能化触屏操作面板,具有集成度高,操作简单,光刻工艺效率高的特点。其主要用途包括:
(1) 微纳传感器的设计与制备。
(2) 微流控芯片的设计与制备。
(3) 生物传感/生物微机电系统(BioMEMS)。
(4) 芯片实验。
无
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