燕山大学大型仪器共享平台

1.写入速度：最高可达10 Mpixels/s
2.分辨率：16 位，写入范围50000 × 50000 像素点
3.写入图形：用户自定义的各种图形或导入的第三方图案，例如点、单像素线、矩形原始图形（螺旋、曲线填充、梯形、三角形、平行格、阵列、圆形、圆环、环形片断）、输入图形文件（bmp、jpg、GDS II和AutoCad、dxf等）
4.写入频率：10kHz 至10MHz，步进1kHz
5.高精度样品台：定位精度≤10nm
6.拼接精度+套刻精度≤10nm
7.样品台移动范围：大于55 ～ 120mm
8.样品台移动速度：≥2mm/s

主要功能及特色

与扫描电镜或FIB联用，即形成一套先进的纳米光刻系统，具体功能与特色为：1.用于现有扫描电镜的功能升级，通过在现有扫描电镜上安装电子束曝光附件，使扫描电镜具备满足科研需求的电子束图形曝光能力。
主要用于光栅、菲涅尔透镜等周期性微纳结构的创建，也可用于MEMS、微麦、微镜、CMOS图像传感器、FET和IGBT等半导体器件1 um以下特征尺寸的栅极等微结构的加工。

主要附件及配置

无

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