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三维表面形貌仪
仪器编号
20170412
规格
PS50
生产厂家
nanovea
型号
PS50
制造国家
美国
分类号
12020224
放置地点
环化馆
出厂日期
2017-04-10
购置日期
2017-04-10
入网日期
2023-12-05
主要规格及技术指标
XY方向单次扫描范围 50×50mm，一次扫描完成，无需进行图像拼接。
XY方向最小扫描步长 0.1μm
扫描速度 10mm/s
Z方向允许样品的最大高度 110mm
Z方向测量范围 300μm
Z方向测量分辨率 8nm
横向光学分辨率 1.2μm
工作距离 11mm
最大测量坡度 85°
Z方向测量范围 3mm
Z方向测量分辨率 50nm
横向光学分辨率： 3μm
工作距离 16.4mm
最大爬坡能力 85°
主要功能及特色
美国 NANOVEA 公司是一家全球公认的在微纳米尺度上的光学表面形貌测
量技术的领导者，生产的三维非接触式表面形貌仪是目前国际上用在科学研究和
工业领域最先进表面轮廓测量设备之一，采用目前国际最前端的白光轴向色差原
理（性能优于白光干涉轮廓仪与激光干涉轮廓仪）对样品表面进行快速、重复性
高、高分辨率的测试分析，通过专业的三维分析软件可得到产品表面的任意参数，
例如：二维高度曲线分布图，二维等高线分布图，三维表面形貌图、孔的深度，
孔的宽度，孔的面积，孔的体积，台阶高度、一维线粗糙度参数、二维线粗糙度
参数，样品的波纹度、功率谱密度，表面高度分层统计，自相关统计等表面参数
的测量。
主要附件及配置
无
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